其主要工藝過程為：
原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量最多，約占總產量的90%以上。
1.5稀土拋光粉的應用
由于鈰系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。
高鈰系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。
中鈰系稀土拋光粉，主要適用于光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高鈰粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國內使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續開發新用途。
低鈰系稀土拋光粉，如771型適用于光學眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對光學儀器，攝像機和照像機鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內用量最多，約占國內總用量85%以上。
1.6稀土拋光粉的市場
在稀土拋光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生產3550噸~4000噸拋光粉，產值35億~40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中最大的拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，而平面顯示產品產量迅速增加，對鈰基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移，如：日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用鈰基拋光粉。上一頁 [1] [2] [3] [4] [5] [6] 下一頁 |
