主要設備有：煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘干箱。
主要指標：產品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
1.4.2中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉化成w（CeO2）=80%~85%的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級鈰系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指標：產品中w（REO）=90%,w（CeO2）=80%~85%;稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm~1.3μm.該產品適用于高速拋光，比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
1.4.3低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土（w（REO）≥45%,w（CeO2）≥48%）為原料，以合成中間體（沉淀劑）進行復鹽沉淀等處理，可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→溶解→復鹽沉淀→過濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細磨篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備：溶解槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。主要指標：產品中w（REO）=85%~90%,w（CeO2）=48%~50%;稀土回收率約95%;平均粒徑0.5μm~1.5μm（或粒度320目~400目）。該產品適合于光學玻璃等的高速拋光之用。用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%）為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。上一頁 [1] [2] [3] [4] [5] [6] 下一頁 |
